****************sikiedu光照烘焙教程***************
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1、Ctr+shift+F,让摄像机与编辑场景的视角一样!
2、如果物体烘焙时UV出现问题(报错),可以修改模型generate lightmap uvs 从而产生自身的光子UV(注意材质uv和物体的lightUV是两套系统,lightUV是光子在物体上的分布)
3、只有勾选static的物体才接受、产生GI
4、灯光的real模式,是与GI设置中的Realtime模式匹配的,会每一帧都实时计算GI(耗时)
5、real、mix、bake区别
6、
Subtractive模式只支持一盏主光源的阴影,而且没有高光烘焙,但是其GI计算开销很小
Shawdowmask模式:间接光、阴影都烘焙
Bakedindirect模式:只拷贝间接光,其他(阴影)都是实时的
7、directionality(灯光方向贴图)信息在normal贴图中是必需具备的信息
8、final gather选项,在最终烘焙时勾选!
9、
①indirect intensity调整全局的间接光强度,(每个灯光的间接光强度也可以单独调整)
②albedo boost调整固有色过爆的问题
10、albedo:漫反射率(固有色)
11、如果希望某个物体的lightmap烘焙速度提升,可以将scale in lightimap变小
12、如果让非静态(动态)物体,接收(参与)GI,两种方案
①灯光设置为mix(可以同时支撑动态、静态物体),并同时开启realtimeGI、mixGI,但是这样比较消耗计算(一般只开启一种GI计算)
②静态物体GI使用烘焙的;动态物体的GI使用灯光探针
13、受光信息越丰富、变化越多的地方,其灯光探针的设置越多,主要在明暗分界线、色彩分界线上设置两组进行过渡
15、
①反射探针主要针对室内(除环境球反射外),实质是将制定反射探针包裹的范围景物,进行cube截取,形成一个cube天空盒(类似)
②反射探针只影响在其box范围内的物体,超出反射探针box,物体只受environment reflection map 的影响。
16、如果要物体左右移动,反射探针实时反映其的反射变化,应该将反射探针归零,然后作为动态物体的子物体(否则反射会偏移),如图所示:
17、
18、要给烘焙的物体,勾选上generate lightmap uvs选项,否则烘焙的lightmap会出错!(与材质UV是两套系统)
19、如果烘焙后的贴图比较模糊,可以将compress lightmap选项关闭
20、light(全局光)面板中影响光子图生成质量的参数解析:
21、Unity post processing asset包路径(官方asset资源包):
22、镜头边角光晕效果:chromatic aberration(边角模糊);vignette(镜头边角压黑)
23、Unity 批处理(batchs)优化draw cell
注意:给物体设置完batch static后,还应该在player中开启batching(动态、静态)
25、occlusionCulliing遮挡剔除(只有相机视口之内的物体渲染,视口之外的不渲染)