完全纯净的、结构完整的半导体称为本征半导体。
常用的半导体材料有硅和锗,它们都是四价元素,原子最外层轨道有四个价电子。
若将纯净的半导体制成晶体,则原子形成排列整齐的点阵。
点阵是由共价键提供的结合力实现的,共价键的结合力很强,可以将大部分电子固定在点阵中;
但即使是在常温下,也会有少数电子由于热运动获得足够的能量,摆脱了共价键的束缚,成为自由电子;
于是点阵中就会留下空位,也就是原来共价键存在的地方,称之为空穴,带正电荷。
若此时对半导体施加电场,自由电子就会定向移动,形成电子电流;
同时,价电子会按一定方向依次填补空穴,可视为空穴定向移动,形成空穴电流。
之后我们将提到的载流子就是这里定向移动的粒子,一种是带负电的自由电子,另一种则是带正电的空穴。
在半导体内,自由电子和空穴都是成对产生,其浓度相等。
以上过程可以概括成一句话:价电子获得能量成为自由电子,产生电子 - 空穴对
在这个过程中,也会有复合现象,就是自由电子在运动过程中与空穴相遇,使电子 - 空穴对消失。
在一定温度下,载流子的产生和复合过程平衡,使得载流子的浓度维持不变。
本征半导体中载流子的浓度很低,导电能力很弱;
通过扩散工艺,人为地掺入少量的特定杂质,其导电性能将产生质的变化;
掺入杂质的半导体称为杂质半导体。
本征半导体中掺入5价元素,多出的电子无共价键约束,只有自身原子核约束,得到少量能量就可成为自由电子。这样的杂质半导体中,自由电子的浓度远远大于空穴浓度。
这样的半导体,导电主要靠自由电子,称为N型半导体。
在N型半导体中,自由电子称为多数载流子,空穴称为少数载流子。
本征半导体中掺入3价元素,与周围的4价原子组成共价键时,缺少电子的地方形成一个空穴。其他共价键的电子只需较小的能量就可以摆脱束缚移到此空穴,从而形成新的空穴。在这样的杂质半导体中,空穴浓度远远大于自由电子的浓度。
这样的半导体,导电主要靠空穴,称为P型半导体。
在P型半导体中,空穴是多数载流子,自由电子是少数载流子。
在一块本征半导体上,用人工使一边形成N型半导体,另一边形成P型半导体,两种半导体的交界处形成一个 P - N 结。
P-N结是所有半导体器件的基础。
在两种半导体的交界面两侧,电子和空穴的浓度相差悬殊,就会产生扩散运动,P区的空穴向N区移动,N区的自由电子向P区移动,这样就形成了方向为从P到N的电流;
扩散运动使交界处形成电场(称为自建场),在这个电场的作用下,少数载流子做漂移运动,其运动方向与扩散运动方向相反,阻止扩散运动。
扩散越多,自建场越强,漂移运动越强,对扩散的阻力越大;
当两种运动作用相等时达到平衡,此时通过界面的净载流子数为0;
交界处形成一个缺少载流子的高阻区,称为阻挡层(或耗尽层)。
将电源的正极接P区,负极接N区,称为正向接法或正向偏置,简称正偏。
PN结正偏时,外加电压在阻挡层内形成的电场与自建场方向相反,削弱了自建场,使阻挡层变窄;
此时扩散作用大于漂移作用,多数载流子向对方区域扩散形成电流,方向由电源的正极通过P区、N区,到电源的负极。
电源正极接N区,负极接P区,称为反向接法或反向偏置,简称反偏。
PN结反偏时,外加电压在阻挡层内形成的电场与自建场方向相同,增强了自建场,使阻挡层变宽;
此时漂移作用大于扩散作用,少数载流子在电场的作用下做漂移运动,形成漂移电流,称为反向电流,反向电流很小。
反向电压超过零点几伏时,反向电流就几乎不再随反向电压的增加而增加了,此时反向电流称为反向饱和电流。
PN结的单向导电特性:
PN结的伏安特性曲线:
反向电压超过一定数值时,反向电流会突然急剧增加,称为反向击穿;
限制反向击穿电流,PN结即可恢复正常;
稳压二极管工作在反向击穿区,流过PN结的反向击穿电流变化时,反向击穿电压基本不变。
势垒电容:PN结外加反向电压变化时,耗尽层宽窄变化所等效的电容称为势垒电容Cb;
扩散电容:PN结外加正向电压时,电容效应称为扩散电容Cd。
将PN结用外壳封装起来,加上电极引线,就构成半导体二极管。
P区引出的电极为阳极,N区引出的电极为阴极。
二极管按材料可分为硅二极管和锗二极管。
按结构和工艺分,可分为点接触型、面接触型和平面型。
二极管的伏安特性与PN结的伏安特性相似;
有点不一样是因为,二极管有半导体体电阻和引线电阻,当正向电压大于某一值时,正向电流才从零随电压按指数规律增大。使得二极管开始导通的临界电压称为开启电压Uon。
稳压二极管
变容二极管
利用PN结的电容效应制造的。
光电二极管
利用对光敏感的半导体制成,光照强度的变化会引起反向电流的变化,反向电流的大小表明了外界光的强弱。
发光二极管
某些材料有电流流过时会发出不同波长的光。
1. 单相半波整流
正偏时导通,忽略正偏电压,相当于开关闭合;再进一步,可把二极管去掉;
反偏时截止,电流近似为零,相当于开关断开。
双极型晶体管又称为半导体三极管或晶体管,简称晶体管,有三个电极。
采用不同的掺杂方式,在同一个硅片上制造出三个掺杂区域,形成两个PN结,构成晶体管。
晶体管中,发射区重掺杂(自由电子较多),基区低掺杂且很薄,集电区面积很大(利于收集载流子)。
发射结正向偏置,集电结反向偏置。
重点掌握参数α和β即可。
晶体管外部极间电压与电流的相互关系称为晶体管的特性曲线。
主要掌握NPN晶体管共发射极的输入特性和输出特性。
输入特性和输出特性也是重点!
判断硅管/锗管:硅管的结电压降一般为0.6~0.8V,锗管的结电压降一般为0.1~0.3V,看给出的三个电位里,相近的两个的差值即可;
判断NPN/PNP:对于NPN型晶体管,基极电位高于发射极电位,而集电极电位高于基极电位。对于PNP型晶体管,发射极电位高于基极电位,基极电位高于集电极电位。