1）TMP的阴影性能如何
2）CommandBuffer.DrawMeshInstanced无法画阴影问题
3）Unity编辑器在Require大量加载Lua文件时，经常报出not enough memory
4）场景制作的时候，2D资源受后处理调色影响比较大
这是第335篇UWA技术知识分享的推送，精选了UWA社区的热门话题，涵盖了UWA问答、社区帖子等技术知识点，助力大家更全面地掌握和学习。
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TextMeshPro
Q：请问TMP的阴影性能如何？TMP的描边没办法改成外描边吗？看起来Outline是内外都扩的，如果想要改成外扩只能改源码吗？
A1：UGUI的Outline会让对象多渲染n次，TMP的Outline并不会让对象的渲染次数增加，性能更好。
在这个Shader中把“+outline”删除，Outline就会只往外扩散了。
感谢Xuan@UWA问答社区提供了回答
A2：TMP的阴影性能非常不错，因为它使用的是基于距离场的渲染技术，这种技术可以在保持高质量的情况下减少渲染时间。这意味着，即使在文本中使用多个阴影效果，也可以获得良好的性能表现。
至于TMP的描边效果，它是支持外描边的。默认情况下，TMP的描边是内外都扩的，但是你可以通过更改材质属性来将其改为外描边。
具体来说，你可以在使用TMP组件的对象上找到对应的材质，然后将材质的Outline Width属性设置为负数，这样就可以将描边扩展到文本的外部。
需要注意的是，TMP的材质是使用ShaderLab语言编写的，如果需要修改其内部逻辑，可能需要一定的编程知识。但是，对于简单的修改，例如更改描边效果，你可以尝试使用Shader Graph工具来简化修改过程。
感谢NG週@UWA问答社区提供了回答
Rendering
Q：想用CommandBuffer.DrawMeshInstanced画阴影，使用的是URP的Lit Shader，ForwardLit 是可以的，且可以AfterRenderingOpaques。但是阴影是画不出来，请问有什么解决方法吗？以下是代码（代码不是原创）：
https://forum.unity.com/threads/commandbuffer-drawmeshinstanc...
部分代码截图：
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https://answer.uwa4d.com/question/6455c52f66cf0b727a3226f9
Rendering
Q：场景制作的时候，要不要开着后处理，遇到的问题是2D资源受后处理调色影响比较大？
我们的情况比较复杂：
1. 从性能角度考虑，低配机型是不开后处理的
2. 2D角色、2D建筑、3D场景混合渲染
3. 有半解锁的战争迷雾效果
在这些需求下，场景制作跟后处理要怎么协同呢？
思考了几个方案都不太行：
1. 在UI相机画2D，但无法完美处理深度问题，因为场景的RT是缩放过的，但UI采用全分辨率
2. 2D片写入Stencil，有一些半透的云可能遮住2D片，写入Stencil处理的话可能会有明显的边界问题，且UberPost最后是全屏的，由于场景RT跟界面RT尺寸不同，Stencil也不对应
3. 将后处理的调色放到Opaque之后进行，但这样其他的半透则无法参与调色，且这种方案带来更多的RT切换，在移动端并不明智
现在想着是在不开后期的情况下设计场景，然后后期调色只是进行微调，尽量不影响2D，如果效果甚微的话，就不开启后期调色了，不知这样处理如何？主要是2D与3D混合的场景，不是说UI，UI相机本身是不开后期的，不知大家有什么方案？
针对以上问题，有经验的朋友欢迎转至社区交流分享：
https://answer.uwa4d.com/question/643e255a4530066a5c277d8f
Lua
Q：在Unity 2018编辑器上跑时，启动Require大量加载Lua文件时，经常报出not enough memory，很频繁但非必现，在Windows/Android/iOS上都不会，用的是toLua。
A：可以在编辑器里面用System.IO.File的接口读Lua，避开TextAsset在编辑器不能卸载的问题。或者尝试升级Lua版本。
感谢欧月松@UWA问答社区提供了回答
封面图来源于网络
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