光刻机之父林本坚发声，中国芯片可自主研发5纳米，美国拦不住

外媒报道指早已退休的台积电前研发副总林本坚接受采访的时候表示，美国无法阻止中国研发先进工艺，还认为中国可以利用现有设备研发更先进的5纳米工艺，他的表态让外媒相当吃惊。

林本坚如此说法在中国的华为研发出相当于7纳米工艺的麒麟9000S之后，他认为中国芯片行业展现了显著的韧性和独创性，因此认为中国芯片行业不会局限于7纳米工艺，更可能实现5纳米工艺。

林本坚被誉为浸润式光刻机之父，当年日本垄断了光刻机行业，佳能、尼康合计占光刻机市场近八成的市场份额，不过这两家日本企业研发的光刻机为干式光刻机，林本坚则提出了浸润式光刻机。

日本光刻机企业基于自己的利益并不认同林本坚的浸润式光刻机技术，当时陷入困境的ASML找上门来，于是台积电和ASML合作研发浸润式光刻机，2008年ASML的浸润式光刻机已取得主导地位，日本的光刻机产业由此迅速败落。

与ASML的合作不仅改变了光刻机行业，台积电也借此实现了飞跃，芯片制造工艺取得了突破，迅速成为芯片代工行业的佼佼者，林本坚由此被誉为浸润式光刻机之父。

中国芯片行业这几年一直受制于光刻机，在芯片制造的诸多环节除了光刻机之外都已取得宏达突破，刻蚀机更已达到5纳米水平，居于全球领先水平。

这些环节的突破，证明了中国芯片行业在技术方面具有扎实的基础，有信心有能力推进国产芯片产业链的发展。

正是麒麟9000S的发布，外媒认为中国在光刻机技术方面取得了重大突破，这对于外媒可谓是震惊的消息，毕竟光刻机是一款非常复杂的机器，ASML的EUV光刻机需要10万个部件，需要全球5000家企业合作，而中国却能仅靠自己的产业链实现光刻机量产。

美国也试图借光刻机卡中国芯片的脖子，拉拢荷兰阻止对中国出口先进的光刻机，不过随着华为麒麟9000S的发布，荷兰突然在9月份给ASML许可，允许ASML对中国出口更先进的2000i光刻机。

林本坚的说法，让外媒重新认识中国芯片产业，毕竟他对光刻机的技术研发有更深刻的认识，作为台积电前技术研发副总更是理解芯片制造过程，他对中国芯片产业的肯定更有可信性。

光刻机是现有硅基芯片技术的重要设备，硅基芯片技术由美国主导，中国在硅基芯片技术上的研发只能是跟随，而中国也深刻明白这一点。

为了实现弯道超车，中国除了继续研发硅基芯片技术之外，也在其他芯片技术方面推进，例如小芯片技术、量子芯片技术等，近日清华大学又公布了一项光电模拟芯片（ACCEL），都是中国芯片在新技术方面的探索。

笔者相信，中国芯片不会永远受制于美国技术，必然在未来开辟芯片技术新路线，弯道超车有很大的可能性，到那时候中国芯片将突破美国技术的桎梏，真正形成自己的芯片技术体系，外媒因此认为美国挡不住中国芯片发展的脚步。