美术常见问题汇总

使用高级光照效果的场景美术人员难以把握正确的场景亮度

例如，烘焙后感觉场景过暗，美术人员以为光照强度不够而加大灯光、反弹程度，结果场景合适的时候，角色却过曝了。
1. 正确的解决步骤：场景亮度不合适，优先查看场景物件的主贴图颜色分布，看它的环境光、diffuse光的亮度是不是过亮或者过暗，然后再更改灯光参数。
物体颜色贴图的调整：

2. 关于曝光度推导公式：
light白光强度为1.5，环境光0.4，物体亮度分别为0.3，0.6，1.0的烘焙颜色对比，底板为50%灰（线性空间）如下所示：

light白光强度为1.0，其他同上，颜色对比
3. 后期toonmapping对曝光度的影响

4. 重要经验
（1）一切场景物件的主贴图平均亮度在0.5左右，能满足大多数情况；
（2）在线性空间，一般场景等效灯光亮度分布在1~1.5，环境光在0.3~0.7之间，能满足大多数情况；
（3）在伽马空间下，大概会比线性空间高亮部增加1档曝光，建议主光源分布在0.5~1.0之间；
（4）对于高级材质的物体，主贴图平均亮度依然在0.5左右能获得较好效果，但是，增加了高光、反射、自发光等特性的物体在最高亮部分更容易过曝；
（5）后期效果tonemmaping，bloom会对物体的高光部分曝光产生巨大影响。

烘焙后有的地方的草格外亮

关键参数：Bounce Boost：控制表面之间的反射的光子数量；默认值为1。（在2017叫做Ambient Boost）
Indirect Multiplier：间接光强度，物体之间反弹的光强度。太大的bounce参数会造成物体间反弹的光子能量较大
重要经验：对于烘焙中涉及到bounce这类参数，要小心谨慎，能不动就不动，能小动就不要大动。

pc，移动平台烘焙后光照贴图差异性很大

美术反映，pc上调好的效果跟打包出来手机上的效果不一样，怎么能解决这个问题？
不同设备gpu型号不同，相同的场景的显示会不同；
同时，pc和手机色彩空间的不同也会造成效果不同；
另外，不同平台lightmap解码/压缩方式不同，因为移动设备硬件等资源比较有限，精度比较低，在光照亮度过高的区域，色彩信息损失比较严重。
解决方案：提高主贴图的亮度，减少灯光控制亮度的作用。
另外，烘焙的光不要太靠近物体，尤其是点光源，越靠近物体、光强度越大，越容易曝光。太近的位置叠加光也会有同样的问题。
只能靠感觉，在电脑上看比较亮的地方，就改一下，因为电脑上亮手机上更容易曝光。

互相穿插遮挡的物体，烘焙后局部会产生黑斑

开启Final Gather就没有这个问题了，Final Gather：提高物体交叉遮挡地方的光子分布精度，就是说光照的反弹效果更好，lightmap质量更高，但同时，烘焙时间会比较长。
RayCOunt一般设为64即可；
同时，模型也要调整一下，避免遮挡太严重。

石头运行后法线不同的问题

运行后，石头的法线会变化。我们然后查了下，看到运行物体会进行合批。我们勾掉合批，就没这个问题。

但是合批为什么会引起法线的变化呢？
我们继续看，这个石头的贴图应该没什么问题，那么会是什么设置弄错了？
仔细检查，Scale为负，可能合批后，mesh改成combined mesh，因为scale为负，导致法线计算错误。
那么我们讲scale设为正的，点击运行前后不会变化了。
结论：不要在unity里将物体transform里的scale设为负的，可能产生各种奇怪的效果。
那么有的美术童鞋就要问了，那我们想要那种翻转效果怎么办？
可以在max里弄成翻转的，导入到unity里。

开始就使旗帜enable和开始使旗帜disable，脚本里让他enable显示不同

博主开始在场景里将旗帜enable设为true，调试顶点动画效果是对的。
然而，需要将旗帜开始disable，脚本里setActive。发现顶点动画的坐标系变了。
仔细看mesh那里在开始就enable的情况下，当前的mesh：slogan和slogan1进行了合批，mesh那儿显示的是combinedmesh，而先disable后enbale显示为mesh。这俩slogan材质球不同，并没有实际的合批，减少dc，但mesh内存却增大了。把他们上面的static勾掉就没有combined mesh了。
而为啥合批后顶点就变了？看到ratation那里旋转了90度。
再次尝试在max里设置z轴向上，unity的rotation就不会旋转，不论是不是combined mesh，顶点动画效果都是一致的。所以，跟上面的问题相似。坐标系改变了。

烘焙后场景中的物体光照变暗

因为烘焙后，失去了高光，只剩下漫反射光照。所以跟左侧相比少了高光效果，整个物体看起来也很暗。那么为什么烘焙的时候不能存储高光颜色呢？因为镜面高光取决于视角、法线、入射光线等多个因素，而视角是变化的，所以不能包含在lightmap里，所以烘焙的时候不会把高光存到lightmap，烘焙后物体会变暗。

unity烘焙间接光照的时候，会根据附件的物体颜色进行着色，像左图所示。自发光的物体也会影响烘焙，如右图，底下的地板有绿色的自发光，在实时光照的情况下不会影响小桌子，而在烘焙后，会影响到桌子的颜色。

AO也会影响烘焙：下图左侧为关闭AO烘焙，右侧为打开AO烘焙：
开启AO后，遮挡处的阴影效果更强，增加深度感。

屏幕后期导致的曝光效果

主要是bloom导致的，bloom原理就是先将屏幕中亮度大于阈值的部分提取到一张RenderTexture上，再将这张 提取亮度的图和原有的图进行混合，模糊，最后达到泛光的效果，显示到屏幕上。
这个亮度阈值就是这个Threshold属性，如果这个阈值设置特别小，提前的亮的地方就会特别多，混合后得到的最终显示到屏幕上的效果就会比较曝。所以这次曝光原因就是这个阈值设的比较低。
另外，soft knee参数表示阈值的过渡值；
radius为bloom模糊半径，半径越大，较亮的区域往外扩散越多，也会容易曝光。
一般比较亮的场景里，这几个值的范围就是这样，Threshold在0.8-0.9范围内，radius在3左右，soft knee在0.2左右，intensity在0.5左右。有的较暗的场景，这个threshold值就比较小也不会曝光。

sceneCommonLod系列shader地表上没有积水效果

specularMap的a通道控制积水区域，但是这个贴图上也有a通道白色控制有积水区域、黑色控制没有积水区域，那是为啥呢。
看了一下这个specularMap的贴图格式没有a通道，rgb格式，然后修改为rgba格式后就好了。
另外t4m的shader控制下雨的是ReflectionMap的r通道，白色为有积水，黑色为没有积水。

shaderForge生成的shader在pc上显示，在手机上不显示，因为在Target renderer下面没有勾选OpenGLes2.0和3.0.

头发的各向异性设置

模型、uv、贴图方向一致
从发根到发尖由上至下

法线贴图设置问题

一些版本中水面法线贴图设置问题不设为normalMap解析有误。

3ds max中Alt+w被占用

https://jingyan.baidu.com/article/ce09321b5402672bff858ffd.html