光刻

ASML , NIKON ,CANON 光刻机

ASML have better performance than others when the wave length shirnk below to 193nm. for exampl:CDU control, throughput ....
The most of top semiconductor companys use ASML tool for critical layers or all layers, ex:INTEL,AMD,TSMC,UMC,...

总体说来ASML的确是占有统治性的优势,市场占有率上,ASML NO1,NIKON NO2,CANON NO3,但各家有各家的优点,不同系列的机台也有着不同的市场占有率。对于I-LINE来说,CANON的价格比ASML便宜不少,但功能上绝对能满足I线的layer的要求了,而且throughput也只比ASML的two stage低一点,所以比较受欢迎。在KrF,ArF以及浸没式上ASML有着明显的优势,Canon确实没法比,Nikon的能和ASML拼一下,据说NIKON的ArF机台也有着相当不错的性能。
Nikon由于有Intel这样的大款傍,所以市场占有率比Canon高。

让大家讨论优缺点,结果都说一些其他的

3种机器我都用过
ASML 最好的, 性能好, 人性化,易维修,就是价格贵。
NIKON, 除了没体会到的LENS 比较好外,其他就是垃圾。
CANON 很稳定,没什么特点。

还有,日本技术非常保密,MANUAL 都不给,垃圾。我做了4年,只懂ASML其他的都没感觉。

光刻是生产半导体元件时的一个工业步骤,该步骤将印在光掩膜上的外形结构转移到基质的表面上。光刻与印刷术中的平版印刷的工艺过程类似。

基质一般是硅晶体的芯片,也可以是其他半导体的芯片。玻璃、蓝宝石或者金属也可以作为基质。
http://zh.wikipedia.org/wiki/%E5%85%89%E5%88%BB

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