NeHe OpenGL教程 07 纹理过滤、应用光照

纹理过滤：纹理在映射到多边形上并转换成屏幕坐标时，很少使屏幕像素与纹理单元正好一一对应，要么对应一个纹理单元的一小部分（放大），要么对应多个纹理单元（缩小），而控制OpenGL怎样取得纹理值及怎样匀和或插值的，就是纹理过滤方式，分为放大和缩小两方面。

放大的情况的纹理过滤方式有最近点采样和线性采样两种。最近点采样即直接取最近的纹理单元值，这样容易产生锯齿，但它的速度更快；线性采样即取周围2×2的纹理单元取加权平均值，这样通常比较平滑，但是在靠近纹理图像边缘时，采样的2×2纹理可能会包含纹理图像以外的内容（如边框或其他部分的纹理），因此需要注意纹理环绕模式及边框的设置。 即使有MipMap，在放大时也只是用基层的纹理图像。

缩小的情况的纹理过滤方式，除了单纯的最近点采样和线性采样（只使用基层的纹理图像，即使有MipMap），可以采用的的过滤方式可概括为GL_XXX_MIPMAP_XXX，其中XXX为NEAREST或LINEAR，两个XXX分别代表在一层的多个纹理单元间及在多MipMap层间使用怎样的采样方式，其中GL_NEAREST_MIPMAP_NEAREST表示取最靠近的MipMap层的最靠近的纹理单元，GL_LINEAR_MIPMAP_LINEAR又叫双线性过滤。

线性采样和双线性采样能够有效减少因纹理映射引起的锯齿现象，这种锯齿在画面变化的时候尤为突出。

使用gluBuild2DMipmaps代替glTexImage2D创建纹理对象，同时可以自动创建相应的MipMap层。

为了给场景添加光照，使用glLight分别指定光源颜色、光源位置。