IR Drop 、EM、Noise 和Antenna

文章目录

  • 1. IR Drop
    • 1.1 IR Drop的分类
    • 1. 2 IR drop的影响
    • 1.3 改善 IR Drop的方法
  • 2. EM
    • 2.1 EM影响
    • 2.2 改善EM方法
  • 3. Noise Violation
    • 3.1 修复noise violation的方法
  • 4. antenna violation
    • 4.1 天线效应的消除方法

1. IR Drop

IR Drop是指在集成电路中电源和地网络上电压下降和升高的一种现象。由于工艺的不断演进,金属互连线的宽度越来越窄,电阻值越来越大,供电电压越来越小,IR Drop的效应越来越明显。因此,现在的芯片最后都把IR Drop的分析做为芯片signoff的一个必要步骤。工具采用Redhawk。

1.1 IR Drop的分类

IR Drop主要分为两种。一种是静态的IR Drop, 另外一种是动态的IR Drop

静态IR Drop产生原因主要是电源网络的金属连线的分压,由金属连线自身电阻分压造成。静态电压主要和电源网络的结构和细节连线有关。

静态IR Drop主要考虑电阻效应,分析电阻的影响。

动态IR Drop产生原因是电源在电路开关切换的时候电流波动引起的电压压降,发生在时钟的触发沿,时钟沿跳变引起大量晶体管开关,带来组合逻辑电路跳变,使芯片短时间内产生很大的电流。

开关的晶体管数量越多,越容易触发动态IR Drop现象。

1. 2 IR drop的影响

  • 性能下降,电压降低后,gate的开关速度变慢,性能降低。因此对于高性能的设计,IR Drop需要控制在很小的范围内。
  • 导致setup和hold违例,如果power network做的不够好,IR drop在某个局部区域特别大(尤其是动态IR Drop),从而导致 STA阶段signoff的timing与实际情况不一致。

setup的违例可以通过抬高电压来提升频率,但是导致功耗上去了,而且如果动态IR drop不够 robust,通过抬电压,setup能提升的空间也有限。
一旦出现hold违例,那芯片就无法正常工作了。因此在先进工艺中,IR Drop的影响特别大,需要引起各位的高度重视。

1.3 改善 IR Drop的方法

  • 提高PG密度,增加power switch cell数量,增强PG的强壮性
  • 插足够多的decap cell(含去耦电容)
  • 将翻转的寄存器错开row摆放

2. EM

EM(电迁移):作为互连线的金属,当电流过大时,电子会同金属内部的原子发生碰撞,导致金属发热,电阻增大,当短时间内发生大量碰撞,金属原子就会沿着电子的方向流动,这种现象称为电迁移
互连线:IC内部采用金属薄膜来传导工作电流称为互连线。

2.1 EM影响

  • 电迁移会使IC中互连线发生短路或断路,引起IC失效。
  • 使电源网格电阻增大,影响电路时序

2.2 改善EM方法

  • 需要加倍线的宽度
  • 增加via的数量

3. Noise Violation

noise也称为crosstalk(串扰),主要是指工艺金属层线变窄,间距变小以后,导致线与线之间的耦合电容增大,接地电容变小。而Noise的大小与耦合电容成正比,与接地电容成反比。所以导致Noise的影响变大。
IR Drop 、EM、Noise 和Antenna_第1张图片
noise的影响主要分为两大类信号的延迟和毛刺
在分析noise时,将产生noise信号源的网络称为侵害net,受到串扰的网络称为受害net。当侵害网络的信号在0和1之间电平变换时,受害网络上会产生相应的串扰噪声。

3.1 修复noise violation的方法

  • 增强受害net的驱动能力,upsize driver
  • 给受害net加buffer,插buffer是后端修复violation的万能手段。它也是处理noise时一项非常有效的修复技术。通过插入buffer将长线打断能有效降低受害net上的耦合电容,从而降低noise的影响。
  • 减少并行走线的长度,改变net走线
  • 将两条net之间的间距加大或者屏蔽线shield来保护受害net
  • 降低侵害网络的驱动能力

4. antenna violation

antenna violation(天线效应):芯片生产过程中,暴露的金属线等导体,就像一根根天线会收集电荷导致电位升高。当电荷足够多就会放电,可能击穿MOS管的栅极,使电路失效,就是天线效应
随着工艺技术的发展,栅的尺寸越来越小,金属的层数越来越多,发生天线效应的可能性就越大。

4.1 天线效应的消除方法

解决天线效应的方法可以分为跳线发(上跳线和下跳线)、插二极管、插buffer。
1.向上跳线法
IR Drop 、EM、Noise 和Antenna_第2张图片

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2.向下跳线法

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这种方法通过改变金属布线的层次来解决天线效应,但同时增加了通孔,由于通孔的电阻会直接影响到芯片的时序和串扰问题,所以严格控制布线层次变化和通孔的数量。
这两种方法,其中向上跳线法是使用最普遍的,只有最高层金属层上出现天线效应时,才考虑向下跳层。不过效果也不明显,可以直接采用下面的另外一种方法,插buffer截掉长线。

3. 插入反向二极管
在金属连接线上插入接地的二极管,当电荷积累到一定程度,就会形成到地的通路,但插入二极管会增大芯片面积,不宜大规模采用。
IR Drop 、EM、Noise 和Antenna_第5张图片
4.插buffer
插入buffer截断长线,解决天线效应。

5.sizeup cell
增大栅极的面积来减轻天线效应

6.添加dummy load负载
本质还是增加gate的面积来缓解天线效应。一般用于较小violation的情况。
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