纳米压印技术的学习

1.应用领域：

宏观方面如印章、刻录光盘；微观方面如制备晶体管和集成电路。由集成电路加工成的

计算机构成现代信息社会的基础。广泛应用于图案转移技术中，其中最多的为光盘的制备。

2.优点：

微纳复制技术只需要制备一个模板就可以廉价、快速的加工出许多复制品

3.光刻技术的诞生：

摩尔的大胆预测：摩尔定律：“每个芯片上集成的元件数平均每18个月将翻一番”

在光学光刻中，通过减少特征尺寸得到高的产量。最小特征尺寸为：

是曝光波长，NA是透镜系统的数值孔径。通过不断减少波长，F会变小，光刻用紫

外光出现了许多技术难题。因此研发了纳米压印技术，该技术为华裔科学家周郁发明的。

4.纳米压印技术的原理：

在微纳米尺度获得复制结构的一种成本低速度快的方法。在高温条件下可以将印章上的

结构按需复制到大的表面上。才拥有那谜团的刚性模具（印章）将基片上的聚合物薄膜压出纳米

级花纹，再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工，最终制成纳米结构和器件。可以大批

量重复在大面积上制备纳米图形结构。技术中光刻只需用一次制造可靠印章就可以批量生产。

纳米压印技术工艺方法有热压印、紫外压印、微接触印刷。

5.压印成型仿真研究：

有限单元法：将问题求解域划分为一系列单元，单元间靠节点相连，单元内部点的待求量可由

单元节点量通过选定的函数关系插值求得。

软件模拟：建模-------设置材料属性-------设置分析条件-------求解

比较仿真结果即可得到参数对热压效果的影响

6.印章制备工艺：

电子束、极紫外光、聚焦离子束、反应离子刻蚀。常用材料有硅、二氧化硅、石英玻璃印章（硬模）、镍、