有趣的MOS管

个人理解,不一定对,大家商榷!

MOS管原理,以NMOS为例:

栅极加正向电压时,将吸引源极和漏极的电子聚集在二氧化硅,将贴近衬底表面耗尽层的“变性”为反型层,即这部分的区域也变成了N型区,这样就将源区和漏区连接起来了,形成了导电沟道,栅极电位不同,吸引电子的能力也不同,因而控制栅极电位就可以控制漏源之间的电流。源极之所以叫源极是因为形成漏源之间电流的自由电子来源于“源”区(source),被吸引的电子通过导电沟道到达漏区后又从漏极泄露(leak,drain)出去了,也可以说漏极收集载流子,而栅极就是门(gate),其控制电子通过的“门”的大小。

注意:栅极主要吸引的电子不是衬底中的电子,而是源漏区的电子,且绝大部分是源区的电子。

MOS管是基于电场效应(电容效应)导电的,普通的电容可以实现MOS管的控制放大左右吗?答案当然是不能,但是为什么不能呢?在电容其中一个极板两端接上电极(a,b),控制电容两极板之间的电压,可以控制ab之间的电压吗?是有微弱的控制作用,但是这个效果与a、b之间所加电压对电流的影响大多了,就像烛光被隐藏在阳光中一样,根本区别不出来。

阈值电压

栅极首先要提供一部分电压将衬底中的空穴赶走,然后还要提供一部分电压吸引电子过来,将电子的浓度提高到原来空穴的浓度,这时候才“导通”。

为什么降低衬底的电位会提高阈值电压值呢?或者说提高衬底电位会减低阈值电压值呢?

首先要明确阈值电压是指当反型区电子的密度等于空穴的密度时,栅源之间的电压。阈值电压可以看成是栅极吸引源区载流子要付出的代价。

源极提高电位,相当于拽了源区的电子一把,增加了阈值;衬底电位提高相当于拉了源区的电子一把,减小了阈值。不要被MOS管的剖面图给骗了,把衬底想象成在栅区的正下方。

当提高源极电位,保持衬底电位时,因为MOS管导通的话必须使得反型区的电子与空穴的密度相等,源极电位的升高抵消了一部分栅极对源区电子的吸引力,PN结反向电压增大,耗尽层的宽度变大,要达到同样的效果,栅极必须提高自身的电位。

当保持源极电位,减低衬底电位时,因为MOS管导通的话必须使得反型区的电子与空穴的密度相等,PN结反向电压增大,衬底电位的减低提高了耗尽层的宽度,抵消了一部分栅极对源区电子的吸引力,要达到同样的效果,栅极必须提高自身的电位。

衬底电位增加时,降低了耗尽层的宽度,栅极吸引源区的电子更容易,栅极阈值减低。

夹断:

其实就是栅极与漏极之间的开始出现电势差为“零”的区域,“极板”上没电荷了。

为什么叫耗尽区?为什么叫反型层?为什么叫源区?漏区?

N型半导体和P型半导体的交界处因为载流子类型和浓度的不同,载流子从高浓度区域向低浓度区域扩散,“试图”使整个区域浓度保持一致,可以自由移动的负电的自由电子和正电的空穴相互复合,留下了不能移动的离子,形成一个空间区域,“耗尽”了自由移动的载流子(这是一个动态平衡)。而反型呢,本来是P型区,其耗尽层留下的是带负电的离子,没办法吸引来带负电的电子的,但是栅极电位大,吸引了源极的电子,负离子区吸引了负的自由电子,所以是反型,这个型是N型,N型中的载流子是自由电子啊。

物质导电终归是要归结到“自由移动”的带电粒子的!

源区就是指形成电流的自由电荷的来源,栅极吸引来了之后,被漏区截胡了,从漏区跑了!也可以说漏极收集载流子。

耗尽层高阻,反型层低阻。

你可能感兴趣的:(集成电路,集成电路)