侵犯商业秘密罪律师:以芯片布图设计为例,谈技术公开与无罪思路

作者:何国铭律师(专于商标犯罪与商业秘密犯罪案件研究与辩护)

据不完全统计,约80%侵犯商业秘密犯罪案件涉及企业员工或者前员工。涉案人员多是高级管理人员或曾在核心技术岗位任职,利用接触核心技术信息或者经营信息的便利侵犯老东家的商业秘密。常说挖人才就是挖技术,人才流通加快加剧了商业竞争,同时也增加商业秘密被侵犯的风险。导致商业秘密被侵犯的原因有很多,当今常见的侵权方式如高管离职后自主创业,经营与原企业同类业务,或如员工与企业竞争对手内外勾结,致使商业秘密被泄露。


据统计,近年来侵犯商业秘密罪案件数量每年约以1.6倍比例递增,案件增长趋势明显,因商业秘密被不当使用而造成的损失数额增大。特别是《刑法修正案(十一)》降低了侵犯商业秘密罪的入罪数额标准,将损失50万降低至30万,商业秘密犯罪案件更是呈现大幅度增长。然而,很多司法人员与律师对商业秘密犯罪案件研究颇少,实务经验不足,致使目前在办理该类案件上存在一系列的困境与难题。在我们的前几篇文章中,谈及商业秘密的非公知性,以及专利导致技术信息失去秘密性,不能再以商业秘密予以保护的问题。接下来,我们在此再讲述一则无罪案例,共同探讨商业秘密非公知性中的“普遍知悉”与“容易获取”的相关法律问题。


这是案发于深圳的一起案件,许某是深圳*威公司(以下简称某威公司)的在职员工,某威公司前期投入了大量资金与人力研发了一款游戏手柄控制集成电路技术,产品刚投入市场销售不久,便发现竞争对手吴某、胡某经营的公司同时在生产销售同样的产品,且产品上所使用的控制芯片技术相同,故某威公司认为是公司员工许某与吴某、胡某内外勾结,泄露公司的商业秘密,为此向公安机关报案。侦查人员接案后,对某威公司的提出的游戏手柄控制集成电路技术进行司法鉴定,经查证尽管某威公司所销售的产品与胡某等人所生产的产品存在面积大小上的差别,但两者的集成电路布图设计具有同一性。经评估,胡某等三人造成某威公司技术研发损失约84万元。


一审法院认定胡某等人构成侵犯商业秘密罪,在上诉期间内,胡某等人均没提出上诉,一审判决生效。但在刑期执行阶段,胡某逐级提起申诉,认为其没有侵犯某威公司的商业秘密。广东高院受理后,撤销原判,发回原审法院重新审理。一审法院经审理后,仍然认定胡某等人构成侵犯商业秘密罪。胡某等人上诉至深圳中院后,二审法院改判胡某等三人无罪。


从案件的审理过程来看,该案可谓是一波三折,无罪之路曲折且艰辛。那么该案为什么会从最初判处侵犯商业秘密罪,到改判为无罪呢?


集成电路布图设计既能以布图设计专有权予以保护,也能以商业秘密寻求保护,但两者往往不是并列关系,而是选择关系,类似于我们上一篇文章中所谈到的专利与商业秘密。集成电路布图设计专有权是以公开的方式获取保护,独享专有的垄断权,商业秘密则是隐秘的方式形成自身的竞争优势。在我国,布图设计专有权在产生上实行登记保护主义,即对布图设计的保护以登记作为前提,布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记而产生。


根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,因布图设计已投入商业使用与否,采取不一样的提交手续,假定布图设计已投入商业利用,申请人需提交布图设计登记申请表、布图设计的复制件或者图样、含有该布图设计的集成电路样品等。与此同时,《集成电路布图设计保护条例实施细则》对布图设计备案登记内容的查询、公示方法作出明确规定,因布局设计是否已投入商业利用而作出不一样的查询规定,假定布图设计已进行商业利用,公众在布图设计登记公告后,可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本,公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。假定布图设计在申请日之前没有投入商业利用的,该布图设计登记申请可以含有保密信息,但比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%,除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制该保密信息。


由此可见,知产行政部门根据集成电路布局设计在申请之日是否已投入商业使用,而采取不同的登记方式,且公众所能查询到的信息也有所不同,对于尚未投入商业使用的集成电路布局,申请人可对部分信息进行隐藏,公众对该部分技术信息无法查阅,但对于已在申请之日就以投入商业使用的,公众则可全部查阅该布图设计的复印件。回到该起案件,某威公司研发的芯片布图设计投入商业使用的时间为2006年5月,某威公司是在2008年3月向国家知识产权局申请布图设计,且该布图设计于2008年4月获得颁证,而胡某等人实施涉案的侵犯商业秘密行为是在2008年。因此,在胡某实施涉案行为时,公众可申请查阅某威公司的集成电路布图设计。


商业秘密的秘密性构为“不为公众所知悉”,当被害人所主张的技术信息为“普遍知悉”与“容易获取”时,则丧失秘密性。如上述案件所例,某威公司就自主研发的游戏手柄控制集成电路技术向行政机关申请登记布图设计,意在获取布图设计专有权,但此种模式是以公开的方式获取独占垄断使用该技术的权利。在形式上,一定程度来说,其是与商业秘密相悖的,因此,当该技术信息被公开,能够轻易查询翻阅之时,其不再符合商业秘密的构成要件,也无法再以商业秘密的方式寻求保护,故胡某等人并不构成侵犯商业秘密罪。当然,从民事诉讼的角度来看,胡某等人的行为可能构成民事侵权,需承担赔偿责任。

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