苹果 logo 缺陷模型训练总结

训练工程图:

先做定位,再做像素分割

定位模块 logo:

苹果 logo 缺陷模型训练总结_第1张图片

做大定位的意义是识别出感兴趣区域,减少干扰并减少下一个像素分割模块的计算量,使得训练的模型更加准确

像素分割模块 s:

苹果 logo 缺陷模型训练总结_第2张图片

总结: 

样本有 40 张,一次标 2 张左右训练,别标太多,要间隔标,比如标了第 5 张,那么从第 15 张起标一张

不知道标记细则则把一定要做标记的先标了,其余相似干扰则打掩膜

做标记划直线,一定要画准确

一条缺陷里部分清晰部分不清晰,清晰的部分画标记,不清晰的部分打掩膜

工具界面出现问题找程老师,工具出现无法正常使用问题找涛哥,出了问题要找对人

训练工具报显存不足我能做的初步分析:

  • 查看图片的分辨率
  • GPU-Z 查看显存占用情况

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