PH metrology

量测 metrology

常见的光刻量测有以下几种

Thickness (厚度)

REG=registration=overlay=套刻

CD critical dimension 关键尺寸

Particle monitor


Thickness (厚度)

合适并且标准的膜厚为了标准尺寸服务,经常见到的CD drift 好多是因为thickness变化.

REG=registration=overlay=套刻

不同半导体层次的对准,

CD critical dimension 关键尺寸


PH metrology_第1张图片

常见的CD 结构(feature)

line

space

contact hole


Particle monitor

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