光刻技术简介

一、何为光刻技术

光刻技术(Photolithography)是微电子与集成电路制备最关键的工艺,其作用正如英文:光(photo)——石(litho)——书写(graphy),及利用光在芯片表面印刷出图案样式,以定义芯片的功能。

二、光刻技术大致流程

光刻技术的流程大致是:

1.涂胶:在硅片表面的二氧化硅薄膜涂上光刻胶(由光敏化合物等混合而成的可在特定波长光照下分解的有机溶剂)

2.前烘:烘培让胶膜里的溶剂充分挥发

3.曝光:将掩模版(石英玻璃制成的薄片涂上铬)吐糟光刻胶上以遮掩部分光刻胶

4.显彰:光线照射部分的光刻胶反应分解,被掩模版遮掩的部分则保留,最终形成了掩模版的图案

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