晶体管与场效应管的区别

晶体管与场效应管的区别

这是一点点个人读书时候摘抄的笔记，只希望能够帮到你。来源——《模拟电子技术基础》（第五版，董诗白，高等教育出版社）侵删。

场效应晶体管的栅极G、源极S、漏极D对应于晶体管的基极B、发射极E、集电极C，它们的作用相类似。

一、场效应管用栅-源电压U-GS控制漏极电流I-D，栅极基本不取电流。而晶体管工作的时候基极总是要索取一定的电流。因此，要求输入电阻高的电路应选用场效应管；而若信号源可以提供一定的电流，则可选用晶体管。

二、场效应管只有多子参与导电。晶体管内既有多子又有少子参与导电，而少子数目受温度、辐射等因素影响很大，因而场效应晶体管比晶体管的温度稳定性好、抗辐射能力强。所以在环境条件变化很大的情况下应选用场效应晶体管。

三、场效应晶体管的噪声系数很小，所以低噪声放大器的输入级要求信噪比较高的电路应该选用场效应晶体管。当然也可以选用特制的低噪声晶体管。

四、场效应管的漏极与源极可以互换使用，互换后特性变化不大。而晶体管的发射极与集电极互换后特性差异很大，因此只在特殊需要时才互换，成倒置状态，如在集成逻辑电路中。

五、场效应晶体管比晶体管的种类多，特别时耗尽型MOS管，栅-源电压U-GS可正、可负、可零，均能控制漏极电流。因而在组成电路时场效应晶体管比晶体管更加的灵活。

六、场效应晶体管和晶体管均可用于放大电路和开关电路，它们构成了品种繁多的集成电路。但由于场效应晶体管集成工艺更简单，且具有耗电低、工作电源电压范围宽等优点，因此场效应晶体管被越来越多的用于大规模和超大规模集成电路之中。