光刻机简介

引言

集成电路产业被称为现代“工业食品”，引领着未来科技产业革命的发展，推动着世界前沿技术的创新和发展。随着工业智能制造和电子信息技术的快速发展，集成电路的重要性不断提高。光刻机作为集成电路制造的基础设备，已成为全球研究人员的重要研究目标。本文主要介绍了光刻技术和光刻机。

光刻技术

光刻包括三个重要的元素：光刻工艺、光刻剂和光刻机。在芯片生产过程中，在晶片上覆盖光刻胶，并置于特定光源的照射下。然后通过开发和蚀刻的步骤，将光刻掩模上的复杂图形影印到晶片上，用于选择性阻挡沉淀或蚀刻。

光刻机的主要零部件

光刻机是一种复杂的结构设备，其主要部件包括激光光源、物镜系统、工作台系统、掩模工作台系统、掩模传输系统、硅传输系统和曝光系统。曝光系统由投影物镜和照明系统组成系统，这是光刻机的核心。光刻机中有工作台、掩模台、掩模传输、晶片传输等多个部分，作为光刻机的执行系统，负责跟踪整个测量和校准过程，实现硅片和掩模板不同位置的切换和精确定位。

光刻机的主要曝光方式

根据不同的应用场景，主流光刻机可分为接触、接近和投影类型。这些光刻机都有不同的工作原理，并适用于不同的加工场景。

1. 接触式光刻机

在生产过程中，接触式光刻机中具有微纳米图形结构的掩模板相互接触。在紫外光的照射下，掩模板上的图形被转移到待处理的基板表面。这种光刻机具有设备结构相对简单、加工效率高、成本低、易于实现大片面积曝光、使用方便、焦深长、工艺适应性强等特点。（江苏英思特半导体科技有限公司）

1. 近距离光刻机

近距离光刻机是由接触式光刻机发展而来的。在近距离光刻机中，掩模板和硅片之间会有一个微小的间隙。因此，掩模板将不会直接与光刻胶接触。由于分离，可以有效地避免光刻胶污染掩模板等问题提高了芯片容量的合格率和生产效率。

1. 投影光刻机

投影光刻的工作原理类似于照相机，其中掩模板和光刻胶之间的曝光是通过光学图案通过光学图案实现的。由于投影光刻机采用投影工艺，掩模与基板不再相互接触，从而减少了掩模板缺陷的影响。光学系统的项目通缩允许处理比掩模图案更精细的结构，大大提高了光刻过程的曝光分辨率。

结论

对于下一代光刻机，光刻技术将向更高的曝光分辨率发展，这可以通过根据瑞利方程不断降低光源的波长、过程参数和增加数值孔径来实现。然而，光刻技术和制造的难度同时增加，成本也将大幅增加。事实上，EUV光刻技术已经将光源的波长缩短到了13.5 nm，这使得通过光源提高分辨率的机会非常有限。在这些情况下，增加投影物镜的数值孔径将提供另一种方法。

江苏英思特半导体科技有限公司主要从事湿法制程设备，晶圆清洁设备，RCA清洗机，KOH腐殖清洗机等设备的设计、生产和维护。