FDTD solution 思维导图笔记

FDTD solution 思维导图笔记

思维导图:
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视频地址:FDTD solution官方初级入门教学

一、编辑器布局

Materials:选择材料

  • etch:折射率为1(即背景的折射率指数)的材料,用于表示刻蚀孔

structures:添加基本结构

可从GDSII或STL格式的CAD文件中导入更复杂的几何图形

Simulation:指定仿真几何形状、仿真时间、网格设置和边界条件

  • 常规选项 General

    • 设置尺寸

    • 背景折射率

    • 仿真时间

      • 仿真需要的最长时间段
    • 仿真温度

      • 用于折射率受温度影响的材料
  • 几何图形Geometry

    • 设置大小和位置
  • 网格设置Mesh settings

    • 网格类型Mesh type

      • 自动非均匀网格(建议)
      • 自定义非均匀网格
      • 均匀网格
    • 网格精度Mesh accuracy

      折射率越高的材料,网格越小,因为高折射率材料的有效波长越小

      • 精度2:标准
      • 精度4或5:高精度
    • 时间步长Time step

      仿真不稳定时,需要较小的时间步长

  • 边界条件Boundary conditions

    • PML:最为常用

      • standard:大多数仿真的最佳选择
      • stabilized:遇到数值发散问题时使用
      • steep angle:陡峭的角度入射时使用
    • periodic:模拟周期性结构

      • 平面波源适合当做用于对周期性结构进行模拟时的光源
    • Bloch:光以一定角度入射时使用,在对周期性结构进行模拟时使用

  • 高级选项Advanced ptions

Sources:设置光源

  • 偶极子光源 Dipole point source

    • 可用于表示点源
  • 高斯光束光源 Gaussian beam source(有限大小)

  • 平面光源 Plane wave source

    • 通常用于表示入射在周期性结构上的光束

    • Plane wave type

      • Block/periodic(适合法线方向入射,周期性结构)
      • BFAST:允许在宽带波长范围内以恒定的角度注入光(用于周期性结构)
  • 全场散射光源 scattered-field source(有限大小)

  • 模式光源 Mode source

    • 注入波导或光纤的支持模式
  • 自定义 import source

  • 全局选项 Global properties

  • 选择流程:

Monitors:监视器,用于记录模拟结果

  • 折射率监视器:测量结构折射率

    • 可用于检查结构形状
  • 时间监视器:测量电场随时间和频域功率的变化

  • 频率监视器:推荐使用field and power的那个;测量不同频率下电磁场的各种参数

  • 电影监视器

    • 文件会存储到工作文件夹下
    • 动态显示电磁场变化情况

Groups:对结构、源和监视器进行分组并返回自定义结果


二、案例

案例一:周期性的蚀刻膜

  • 基本设置

    • ①建立纳米孔阵列

      • 设置膜
      • 设置衬底
      • 在Object library中设置周期性的刻蚀孔
    • ②设立仿真条件

      • 设置仿真形状、网格设置(控制精度)、边界条件

      • 在模拟周期性结构时,建议使用“steep angle”PML结构(更有效的吸收各个方向来的结构光);

      • 经验法则:我们希望在PML前面至少有一个均匀材料波长的一半的距离

      • Simulation中添加网格覆盖区域

        • 网格覆盖区用于指定模拟体积中局部区域上的网格步长;
        • 更精细的网格步长可以提升收敛精度
    • ③设置光源

      • 设置光源大小和范围、波长范围
    • ④设置监视器

      监视器可以设置在模拟区域之外,只有模拟区域内的区域数据会保存

      • 设置折射率监视器

        • 设置频率功率监视器以测量反射光谱

          监视器选择Monitors——Frequency-domain field and power;
          把监视器拖动到源的上方来测量反射场

        • 复制得到新的频率监视器,拖动到衬底内测量透射光谱

        • 设置其它监视器

    • ⑤改进:利用结构和源的对称性来减少需要模拟的模拟量

      • 改变Simulation中的边界条件
  • 运行前检查

    • 在材料资源管理器中检查材料的配合

      确定模拟的材料准确的描述真实的材料

      • 如何获得更好的拟合?

        • 增加系数数量
        • 虚部拟合不太好:增加虚部比重
    • 从模拟工具栏中的检查按钮检查内存报告

      • 确保有足够内存进行模拟
  • 结果分析

案例二:测量入射到光栅上的光的反射量(2D)


三、快捷键

编辑对象:E


四、设计工作流

建立仿真

1.运行
2.分析结果
3.根据结果修改设计
4.重新仿真

先用粗精度进行大范围仿真,再用高精度在小范围进行仿真

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