《冰火两重天》

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《冰火两重天》

最近比较热门的话题或许莫过于“中国22nm光刻机”了，一则“国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收”的消息如同石投大海，激起了不小的波澜。先是被某些媒体吹上了天，大肆宣扬中国光刻机取得了历史性突破，实现弯道超车，一举打破西方垄断，技术雄贯全球。后来中科院对媒体的一些误报进行了澄清，大家才知道国产22纳米光刻机还是治不了咱们的“芯”病。人们如梦方醒，却又如同泄气的皮球，仿佛中国一下子什么都不是了，甚至有人感觉咱们的光刻机只不过是某些科研机构为了骗取国家科研经费而谎报的项目。从欢呼雀跃到唉声叹气，从天堂跌落地狱，从神仙降落为凡人，完全两副面孔，两种截然不同的态度，有如冰火两重天。

大家对于国家科技的关心和祈望，是可以理解的。毕竟光刻机代表芯片及微电子技术的瓶颈，光刻机技术的突破，不仅是一次重大的技术飞跃，更有望报美国对我们实行高端芯片禁运之仇，破解芯片困局。

两个极端，要么吹上天，要么被贬得一文不值，我们对很多事物的出现都喜欢抱两种截然相反的态度，喜欢走极端。中科院很客观地发布消息，而我们的所谓“超车”，其实是被某些自媒体过分吹捧，过分解读，才有世界领先，赶超ASML之说。

光刻机是目前已知地球上最精密最复杂的仪器，没有之一，其复杂程度比之建造航母，有过之而无不及。ADML的专业研究人员就达到7000多之巨，加上合作的机构及各国参与人员，估计不下十万。而且人家是经历了长期的浸润与沉淀，投入了巨额研究经费，无数人的智慧与劳动，一步步走过来，方有今天的顶级设备和成就。而我国仅凭一己之力不仅科研力量单薄，参与人员偏少，研究经费低，研究过程短暂等实际存在的巨大差别，妄图一步登天，实现跨越式发展，是非常不现实，也不符合科技发展的规律。

7nm高端光刻机，极紫外光刻机（EUV）目前也就荷兰阿斯麦一家独有，美国，日本也都没有掌握这门技术，有为何苛求中国在短期内实现技术的突破与飞跃呢？中国目前还没有这方面的技术也是十分正常，毕竟这是科技皇冠上的宝石，是人类最高智慧的结晶。

改革开放近数十年来，我国的科技发展取得了长足的进步，无论是国防军工，还是民用科技，或者航空航天，生物医药，信息技术，新材料等等众多领域，中国都已经走在世界前列。现在能完全被西方封锁的技术或设备，已经屈指可数。这是非常了不起的成就，纵观全球，唯有中国能做到。对此，西方科技发达国家都不得不承认，惊呼中国的发展速度。而我们也确实看到了许多高科技成果呈现井喷之势。即使是光刻机方面，能有22纳米的表面等离子体（surface plasma SP）光刻法的成就，也属难得。毕竟中国科技成果大部分都是最近几十年发展起来的，而且是在西方国家对我们严密封锁的国际大环境下取得的，非常不容易。能有今天领先世界的众多成果，作为国人，应该感到骄傲，尤其应该为我们在一线默默付出的科研人员点赞，而不是嘲讽，贬斥。虽然我们仍然存在一些短板，在高端设备和技术方面与西方发达国家还有一定差距，但国家也在制订计划在进行研究，以期早日突破或赶超。我们需要万众一心，众志成城，团结一致，信心百倍地去努力，而不是妄自菲薄，互相贬低，打击或泼冷水。

这里想弱弱地试问喷子们，你们在叫嚣，在挖苦和打击国人的时候，也扪心自问一下，自己为国家做了些什么？为科技的发展，文明的进步贡献了多少心血与智慧？