局部光照 + zBuffer + 纹理

局部光照 + zBuffer + 纹理

    采用了最简单的局部光照模型，用opengl的光照方程：I = Ia * Ka + Id * Kd * (L dot N)  + Is * Ks * pow((R dot V),n)
    I，L为光照强度和材质参数，L，N，R，V分别是光线反方向，法线，视线反方向，反射光线方向，n为镜面反射因子，这条公式只考虑了环境光(ambient)，镜面光(specularity)，散射光(diffuse)的影响，实际上还有发射光(emission)，不过对于局部光照模型来说，这种发射光没多大意义，稍微修正了下散射光部分，把光线和法线的点积值映射到了(0.0f,1.0f)范围，让背光部分不至于一团黑，公式变为：
  I = Ia * Ka + Id * Kd * (L dot N + 1.0) * 0.5 + Is * Ks * pow((R dot V),n)

 点光源效果：

 
  
 另外把纹理和zbuffer也加上了，纹理采用的是仿射纹理映射，修正纹理映射涉及到浮点的精度问题，在z距离变化比较大的时候纹理跳跃比较严重，暂时还没想到一个合适的解决办法，纹理寻址方式固定范围，不做越界寻址处理，支持双线性纹理过滤，目前纹理图片格式完成了BMP图片的载入

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