NetApp 利用适用于混合云的实时解决方案解决芯片设计方面的数据管理挑战

电子设计自动化 (EDA)
成本持续增加，而周期时间缩短。这些都为 EDA 设计带来了前所未有的挑战，对现代高性能工作流的需求变得从未如此巨大。

新技术要求使用新的 EDA 解决方案
最近，对 5 纳米和 3 纳米流程的计算和存储需求的增长已经超过了最常见的 EDA 基础架构方法。这些新的 3 纳米流程所需的存储和计算量是 5 纳米流程的四倍。

随着内部解决方案的容量难以满足需求，现在需要新的云解决方案来跟上时代的步伐。 NetApp 通过侧重于新通用环境数据管理方法的强大云技术解决方案帮助解决这些需求。

处理 EDA 工作流的新方法
传统的 EDA 工作流非常繁忙，无法满足 10 纳米、7 纳米和 5 纳米等领先的流程技术所需的计算和存储级别。为了满足这些不断增长的性能、可扩展性和成本需求，以及设计团队在地理位置上的分散性，底层基础架构必须易于使用、灵活、可扩展且安全。

随着 EDA 需求的增长，NetApp 解决方案不断扩展
在内部环境和在云端。ONTAP 支持以透明方式开发自行管理的混合环境和内部环境，而这只需较低的投入。ONTAP 利用现有的基础架构和人员，提供了一条无缝路径来：

• 简化向云就绪数据中心的过渡
• 利用闪存和云打造现代化的基础架构，而且不会形成孤岛
• 借助企业级数据服务部署新兴应用程序
• 从根本上改变数据中心的经济效益
• 移动数据，使其可以在边缘、核心或云端以最优状态运行
• 使用一套工具管理和保护数据，无论数据位于何处

充分发挥云的潜能
由于我们的成功、可靠性和正常运行时间，Amazon、Microsoft、Google 和 IBM 这四个全球最大的超大规模公司都邀请我们为他们的云构建数据管理和存储解决方案。

一系列世界一流的云数据解决方案
无论您的 EDA 之旅带您去往何方（从现有的内部解决方案到自行管理或完全托管的云服务），NetApp 均可提供具有最高级别灵活性、安全性和可扩展性的行业领先的存储解决方案。