反转了，中国光刻机取得突破，ASML或向中国出售14纳米以下光刻机

外媒报道指ASML可能将改变此前的做法，将向中国出售可用于14纳米的光刻机，原因是中国光刻机的突破以及ASML自身经受的业绩压力，为了抢占市场并争取生存机会，只能无视美国的芯片规则。

一、ASML顶不住了

ASML的最大利润来源是EUV光刻机，然而EUV光刻机如今可能面临无人购买的局面。

台积电公布了一季度的业绩，业绩显示创下17个月以来的新低纪录，原因是芯片订单急剧减少，导致台积电的7纳米工艺产能利用率暴跌至四成，5纳米工艺产能利用率也在下降，为此台积电将进一步缩减今年的资本开支，而它在去年就已宣布减少今年的资本开支80亿美元，同时还停止了7纳米和28纳米工艺产能扩张计划。

相比起台积电，EUV光刻机的另外两大客户三星和Intel同样不好过。三星在去年底试图采取此前屡获成功的逆周期扩张计划，因此在去年底紧急购买了10台EUV光刻机，但是近期三星却传出了大举砍单的消息，同时大举降低芯片代工价格，因为订单减少幅度太大了，芯片库存激增；Intel则已放缓了Intel 4工厂的量产计划。

先进的EUV光刻机无人买，DUV光刻机同样面临着全球芯片行业下行的压力，已宣布停止研发10纳米以下工艺的联电、力积电等已降价与三星抢单，格芯则在去年底宣布裁员并缩减资本开支，全球诸多芯片企业都紧缩开支以度过当下的寒冬。

ASML最后的希望是中国市场，也曾是它信心满满的市场，然而早前ASML高管突然表示中国自研光刻机将打乱全球芯片产业链，此番言论或说明中国已成功研发28纳米浸润式光刻机，如此ASML当下可以对中国销售的1980Di光刻机失去了竞争力，1980Di为38纳米光刻机。

这些变化正将ASML逼入绝境，它担忧自己的收入因此急剧下跌，乃至面临生存危机，因此传出了将无视美国的芯片规则，对中国出售14纳米及以下的DUV光刻机，以求从中国市场获得收入。

二、ASML的算盘

ASML对中国出售14纳米及以下的光刻机，并非代表着ASML的仁慈，相反这恰恰是ASML不安好心，以及形势迫使它不得不对中国出售14纳米光刻机。

正如上述，全球芯片行业的下行导致中国以外的芯片制造企业都已放弃购买EUV光刻机以及DUV光刻机，这对于主营业务是光刻机的ASML来说可谓是生死危机，它本来以为中国市场会是它的救命稻草，但是中国研发成功28纳米光刻机让它当下可以销售的1980Di光刻机完全没有了竞争力。

为了紧紧抓住中国市场这根救命稻草，ASML就只能对中国出售14纳米及以下的DUV光刻机了，这也是当下中国市场急需并且尚无法自给自足的先进光刻机，如此ASML将能从中国市场获取不菲的收入。

业界人士认为ASML此举的另一个目的或许是为了打压中国研发先进的光刻机，因为中国研发成功28纳米光刻机，那么研发14纳米乃至7纳米光刻机的难度已大大减小，从28纳米到7纳米DUV光刻机都是浸润式光刻机技术，ASML抢占了这部分市场，那么中国光刻机企业就会失去这部分市场而损失大笔收入，如此中国研发光刻机的进程将放缓。

这也是外国企业向来对中国的做法，当年在液晶面板行业，中国未研发成功8.5代液晶面板生产线之前，日本和韩国的液晶面板企业总是说会到中国开设8.5代液晶面板生产线，然而迟迟不见行动，2009年中国两家企业筹建8.5代液晶面板生产线，日本和韩国的企业迅速与南京、广州达成合作建设8代液晶面板生产线，试图借此阻止中国发展先进的液晶面板技术，当然日本和韩国的目的最终没能达成，相反到如今它们已被中国两大面板企业击败。

ASML如今的转变恐怕已经晚了，中国已经看清了它的真面目，即使中国采购14纳米光刻机，估计也只是采购部分，中国必然会加速国产光刻机的发展，不希望在将来再次受制于人。