TSMC 65nm .itf工艺衬底文件转.itd文件

简述

因为要使用电磁仿真一个电感，为了更精确的仿真，我们需要知道各层结构，而TSMC的cadence PDK中有.ift文件，可以使用ads自带的小程序eesofsubed.exe来转化文件，这里记录一下需要注意的关键点，否则转换出来的会乱。

环境

ADS2022update2
centos7
IC618
TSMC65nm(OA)

过程

1准备好转化的文件

找到所需工艺的衬底文件.itf和对应的techfile文件

查找文件技巧

点击右上角查找，在弹出的搜索框中输入

.itf

根据需要选择你所需的工艺库

同理
找到techfile，techfile不是随便哪一个都行，而是根据你上面选的.itf文件相对应，比如说，我们选择cln65lp_1p07m+alrdl_4x2z_typical.itf，则techfile要选择对应文件夹的techfile，不然之后导出会乱

2转化

在windows端在ADS安装目录找到eesofsubed.exe这给软件，注意你的软件版本要是ADS2022update2，即Substrate Editor
不然导出来没有金属层和过孔

File=》import ITF File出现如下界面
![在这里插入图片描述](https://img-blog.csdnimg.cn/b036c6e3857f49d4ac9e91288baa8c9f.png
选择你刚刚找到的两个文件，还可以选择输出文件的位置，如果有需要设置基板厚度，然后点import，这样就导出了所需的.itd文件。

3查看并修改

打开layout中

出现如下图，点OK

点Create Substrate

出现如下，点击File=》import=》itd substrate file


可以看到有都很齐全
但是还是出现了乱码的问题，我们找了很久的问题

发现是软件本身的问题，具体问题是ADS的标准库占用了0到39所有的Number

导致所有导入的所有都后延了，层文件的序号乱了，而金属层对应的需要没变，所有出现了上面的乱码。

解决方案1

手动改，根据工艺的文件改，我找的是TN65CMSPO07_1_7.pdf中的来更改。

最后结果是这样的，中间添加了过孔和两层金属。

解决方案2

使用Linux版本中的ADS的ADS Dynamic Link功能，即用virtuoso的版图，在使用你导入的itd衬底文件，并用自己的电磁仿真功能，最后得出结果，这样就避免了乱码的问题。

注意

1、软件版本要是ADS2022update2，我演示用的ADS2020update1，所以导出的.itd文件没有过孔和金属层。
2、我们可以看到官方文件中的有些金属层贯穿了好几层不同的介质，但在仿真中，不能根据实际设置，好在可以将几层介质等效成一层介质。参考ADS螺旋电感仿真。

致谢

感谢吴奇，衬底的文件是吴奇成功导出的，不然手动输出文件会影响我这个强迫症的，虽然最后的误差并不会很大。

参考

参考ADS螺旋电感仿真
呕心沥血自制TSMC18 ADS Momentum衬底文件