《炬丰科技-半导体工艺》植入物表面的钛纳米级蚀刻

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:植入物表面的钛纳米级蚀刻
编号:JFKJ-21-362
作者:炬丰科技

摘要
公开了一种形成要植入活骨的植入物的方法。该方法包括使植入物表面的至少一部分粗糙化以产生微米级粗糙化表面的行为。该方法进一步包括将微米级粗糙化表面浸入含有过氧化氢和碱性溶液的溶液中以产生纳米级粗糙化表面的动作,该纳米级粗糙化表面由叠加在微米级粗糙化表面上的纳米点蚀组成。纳米级粗糙表面具有促进骨整合的特性。

《炬丰科技-半导体工艺》植入物表面的钛纳米级蚀刻_第1张图片
发明领域
本发明总体上涉及种植体,尤其涉及具有纳米级表面形貌的牙种植体及其制造方法。
发明背景
用放置在牙种植体上并附着在其上的假牙来替换缺失的牙齿正变得越来越普遍。牙科植入物通常由金属和金属合金组成,包括钛 (Ti) 和钛合金。牙种植体作为人工牙根,将 25 与牙龈和口腔骨组织结合在一起。为了使牙种植体成功发挥作用,需要足够的骨整合。换句话说,植入物和骨骼之间的结合必须形成并保持。植入物的表面可以粗糙化以帮助增强 30 骨整合过程。使植入物表面粗糙化的方法的非限制性实例包括酸蚀刻和喷砂,它们赋予表面粗糙度。
其他现有技术包括形成骨结合材料的一般薄(例如,一般小于 10 微米)涂层,例如羟基磷灰石 (HA)、其他磷酸钙或其他骨结合化合物,以在植入物之间形成直接化合物和骨头。等离子喷涂和溅射是两种主要的技术,已用于在植入物 40 上沉积,例如 HA。
发明内容
本发明涉及一种形成要植入活骨的植入物的方法。该方法包括使植入物表面的至少一部分粗糙化以产生微米级粗糙化表面的动作。该方法进一步包括将微米级粗糙化表面浸入含有过氧化氢和碱性溶液的溶液中以产生纳米级粗糙化表面的动作,该纳米级粗糙化表面由叠加在微米级粗糙化表面上的纳米点蚀组成。
发明详述
本发明涉及具有纳米级表面形貌的植入物及其制造方法,该表面形貌由不规则的65形凹坑组成。
《炬丰科技-半导体工艺》植入物表面的钛纳米级蚀刻_第2张图片
含有下表 1 中提供的 KOH 和 H2O2 浓度的所有溶液在约 50 摄氏度下暴露于过氧化氢和 10 氢氧化钾溶液约 1 分钟后,在商业纯钛上产生可接受的纳米形貌

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表 2 中提供的含有 KOH 和 H2O2 浓度的溶液减慢了形成可接受的纳米形貌的方法,从而改善了生产环境中的过程控制。当碱或过氧化物浓度接近 0% w/w 时,没有形成所需表面形貌。

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