ASML对中国的光刻机出口继续倍增，忧虑失去中国市场

统计数据指出6月份、7月份荷兰对中国的芯片设备出口较5月份增加了一倍，这是在今年二季度ASML对中国的光刻机环比倍增之后再度加速，显示出ASML正抓住9月份之前的时间窗口加紧对中国交付光刻机。

由于众所周知的原因，荷兰宣布将从9月1日起先进芯片设备对中国的出口都要申请许可，荷兰出口的主要芯片设备就是ASML的光刻机，很明显这就是说荷兰将会进一步加强对光刻机出口的限制，而此前ASML表示能对中国出口的最先进光刻机是38纳米的1980Di。

ASML公布的今年二季度业绩显示它对中国交付了27台光刻机，相比一季度对中国的光刻机交货量仅8台增加了两倍多，而7月份较5月份加倍，也就意味着ASML对中国的光刻机出口在加速。

促使ASML加速对中国的光刻机出口，在于全球芯片市场的变化，由于全球芯片供给过剩，台积电、Intel、三星等都已放缓乃至停止产能扩张步伐，这三家企业正是ASML最大的客户，他们放缓采购光刻机已让ASML相当紧张。

近期Intel还传出消息指为了降低成本正重拾无需EUV光科技的DSA技术，希望依靠这项技术增强成熟工艺的性能，据称已实现18纳米DSA技术，未来预计将会发展到5纳米，这更是让ASML非常担忧。

此前日本研发的无需光刻机的NIL工艺已被日本铠侠采用，美国另一家芯片企业美光也研发了无需EUV光刻机的1β工艺，这都显示出全球芯片行业在芯片下行需要控制成本的情况下，试图绕开成本昂贵的EUV光刻机。

目前ASML在售的第一代EUV光刻机售价达到1.2亿美元，而第二代EUV光刻机将达到4亿美元，不仅光刻机的价格更昂贵，芯片材料如光刻胶等也更贵，整体芯片生产成本正在急剧上涨。

目前台积电和三星都已量产了3纳米工艺，但是由于3纳米工艺的良率太低、成本太高，三星至今没有公布它的客户，而台积电的3纳米则仅有苹果一家采用，而且苹果还迫使台积电修改了收费规则，3纳米工艺的晶圆将按可用晶圆收费，其他损坏的晶圆成本将由台积电独自承担，据称台积电的3纳米工艺良率仅有55%。

采用更高成本的EUV光刻机的先进工艺客户较少、还要芯片制造企业承担高昂的成本，由此也导致台积电至今未有计划采购第二代EUV光刻机，而第一代EUV光刻机生产的5纳米、7nm工艺都已出现产能过剩，导致台积电不得不关闭了部分EUV光刻机，如此一来中国这个客户更加重要。

今年二季度的数据显示中国市场为ASML贡献了24%的收入，较今年一季度的8%增加了两倍，如今7月份再度加速，预计三季度中国市场为ASML贡献的收入占比将进一步加大，显然ASML希望通过对中国的光刻机出口弥补三大客户减少采购光刻机的损失。

不过留给ASML的时间窗口已不多了，不仅美国限制ASML对中国的光刻机出口，中国自己也在研发先进的光刻机，据悉28纳米光刻机将在今年底前量产，而28纳米光刻机所采用的浸润光刻技术将可延伸至7纳米，如此情况下中国未来对ASML的光刻机需求在减小，这也是促使ASML加快对中国光刻机出口的原因。