28nm！清华大学就国产光刻机正式发声，倪光南院士没说错！

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导读：28nm！清华大学就国产光刻机正式发声，倪光南院士没说错！

众所周知，自从老美多次修改芯片规则以后，就直接打乱了全球芯片市场的发展规则，并让我国的华为等科技企业的发展受到了很大的影响，这些年来，国内科技企业的发展一直都依赖于从国外进口的芯片，这也让我们很容易被人卡脖子发展，为了避免被卡脖子，最近这几年国内也开始加快了国产化的芯片供应链体系的建设！

ASML的光刻机无法自由出货，倒逼着我们不得不加快国产光刻机的研发

而我们要想打造出属于我们自己的国产芯片供应链体系，那么首先要解决的就是光刻机这一卡脖子的难题，要知道，没有先进的光刻机，就无法生产出先进的半导体芯片来；而在光刻机领域，又几乎都被荷兰ASML公司所垄断，在老美的限制下，ASML公司的光刻机也无法做到自由出货，所以这也倒逼着我们不得不加快国产光刻机的研发！

国内在光刻机领域发展迅猛

实际上，在光刻机领域，我们并非是一片空白，国内的上海微电子、清华大学和中科院都很早就展开了对光刻机等卡脖子技术的研发，随着国内机构和科技企业的不断努力研发，如今在光刻机领域，我们也迎来了一个又一个的好消息，像光刻机的物镜和曝光系统供应商国望光学就已经取得了巨大的进展，并开始准备进入试产，而在国产浸润系统方面，我们也已经开始投入运营！

28nm！清华大学就国产光刻机正式发声

在有了这些核心关键技术的突破以后，国内就离先进的光刻机更进一步了；值得一提的是，最近我国清华大学就国产光刻机也正式发声，清华大学方面应邀发表了关于高端光刻机光栅定位与套刻测量技术的发展论文。其中清华大学方面表示：我国在14n以下工艺制程领域依然需要依赖国外进口的光刻机，而这也就意味着国产光刻机已经跨越了关键的28nm工艺门槛，而现在来看，这一切也似乎都已经变成了现实！

要知道，在国产光刻机领域，我国的上海微电子很早就研发出了国产光刻机，像其研发的SSA600/20光刻机就使用了193纳米的波长，最大分辨率为90nm；而前布局上海微电子方面也表示已经突破了28nm光刻机技术；只不过我们一直都没有看到量产，现在从清华大学方面的消息来看，关于国产光刻机，我们似乎已经开始下探到了14nm技术，这也说明在28nm领域，我们已经取得了成功，量产也只是时间问题！

倪光南院士没说错

在看到国内光刻机市场快速发展起来以后，就连荷兰ASML公司也开始加快了在中国市场的布局，如今中国市场已经成为了ASML的最大市场，其市场份额高达34%，这也说明ASML正在加快在中国上次的发展，而这一切也都是因为我们国内的光刻机发展的迅速，让ASML也感觉到了压力；而这也验证了国内院士倪光南所说的话：在核心技术领域，靠钱是买不来的，我们只有掌握了自主研发的核心技术，那么市场才会主动送上门来，如今我们已经掌握了光刻机的相关技术，而ASML也很快就转变了态度，不知道对此你是怎么看的呢？